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电子级氢氟酸的生产技术
- 2020-09-03-

  电子级氢氟酸对金属和玻璃具有很强的腐蚀性,是一种重要的化学试剂。它具有清洗和蚀刻两种功能,应用于半导体、太阳能电池板和液晶面板

  在生产过程中。氢氟酸对微电子工业的安全起着重要的作用。在氢氟酸的生产、检测、包装、运输等环节建立了严格的管理和控制体系,确认了氢氟酸的质量,保障了微电子产品生产过程的顺利进行。

  生产技术

  电子级氢氟酸可通过蒸馏、亚沸蒸馏和气体吸收制备。由于氢氟酸的强腐蚀性,蒸馏过程中常用铂、金、银等

  由贵金属或聚四氟乙烯制成。目前我国比较常用的工艺路线是蒸馏,大致如下:原料酸→化学处理→连续蒸馏→吸收塔→超净过滤→成品包装。

  无水氢氟酸中的大部分杂质是氟化物

  它的沸点很高,在蒸馏过程中可以较好地分离。三氟化砷的沸点比氢氟酸的沸点小,这使得砷的脱除比较困难。蒸馏分离成效不好。砷的预处理是氢氟酸生产的关键工序。

  电子级氢氟酸生产中除砷方法主要有硫化物法、电解法、离子交换法和氧化法。目前,氧化法已得到较好的应用和发展。主要氧化过程为高锰酸钾氧化和氟气氧化,使氧化产物在塔釜中富集,在蒸馏过程中清理。高锰酸钾氧化法可以将三氟化砷转化为高沸点的五氟化砷,然后清理杂质,但容易掺杂其他杂质;氟化物气体氧化技术还可以将三氟化砷转化为高沸点的五氟化砷,从而清理杂质不引入其他杂质。因此,氟氧化法除砷率高,没有污染。