回收副产氢氟酸由氢原子与氟原子的强结合能力，以及水溶液中氟化氢分子间的氢键作用，理论上，低浓度氢氟酸是弱酸。具有较强的腐蚀性，能腐蚀金属、玻璃、硅等物体。吸入蒸汽或与皮肤接触会导致受伤。实验室采用萤石（主要由氟化钙组成）和浓硫酸。它需要密封在一个塑料瓶里，并存放在凉爽的地方。
　　他是通过在水中溶解氟化氢得到的。用于雕刻玻璃，清理铸件中的残余砂，控制发酵，电解抛光和清洗腐蚀性半导体硅片（混合酸和硝酸）。由于氢原子与氟原子的强结合能力。
　　氢氟酸能溶解大量的玻璃（主要成分：二氧化硅），其他酸不能溶解。反应方程式如下：
　　SiO2（s）+4HF（aq）==SiF4（g）↑+2H2O（l）
　　所得SiF4可继续与过量HF反应生成氟硅酸
　　SiF4（g）+2hf（AQ）==H2[SiF6]（AQ）。氟硅酸是一种强的二元酸。
　　氢氟酸的主要用途
　　氢氟酸具有溶解氧化物的能力，在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸还可用于蚀刻玻璃、刻字、刻字、刻字；在半导体工业中，用于除去硅表面的氧化物；在炼油厂，可作为异丁烷和正丁烯烷基化的催化剂；氢氟酸也可用于“酸洗”过程，以清的含氧杂质不锈钢表面。氢氟酸还用于合成多种含氟有机化合物，如聚四氟乙烯（PTFE）和制冷剂（如氟利昂）。
　　氢氟酸和熔融氢氧化钠均可用于除微丝表面的玻璃涂层。室温下，氢氟酸对10μm厚玻璃涂层的清时间约为150s，熔融氢氧化钠清的时间约为10s，玻璃的成分和结构是影响镀膜纯铜微丝耐蚀性的重要因素。采用熔融纺丝法制备了玻璃包覆铜微丝。