回收副产氢氟酸由氢原子与氟原子的强结合能力,以及水溶液中氟化氢分子间的氢键作用,理论上,低浓度氢氟酸是弱酸。具有较强的腐蚀性,能腐蚀金属、玻璃、硅等物体。吸入蒸汽或与皮肤接触会导致受伤。实验室采用萤石(主要由氟化钙组成)和浓硫酸。它需要密封在一个塑料瓶里,并存放在凉爽的地方。
他是通过在水中溶解氟化氢得到的。用于雕刻玻璃,清理铸件中的残余砂,控制发酵,电解抛光和清洗腐蚀性半导体硅片(混合酸和硝酸)。由于氢原子与氟原子的强结合能力。
氢氟酸能溶解大量的玻璃(主要成分:二氧化硅),其他酸不能溶解。反应方程式如下:
SiO2(s)+4HF(aq)==SiF4(g)↑+2H2O(l)
所得SiF4可继续与过量HF反应生成氟硅酸
SiF4(g)+2hf(AQ)==H2[SiF6](AQ)。氟硅酸是一种强的二元酸。
氢氟酸的主要用途
氢氟酸具有溶解氧化物的能力,在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸还可用于蚀刻玻璃、刻字、刻字、刻字;在半导体工业中,用于除去硅表面的氧化物;在炼油厂,可作为异丁烷和正丁烯烷基化的催化剂;氢氟酸也可用于“酸洗”过程,以清的含氧杂质不锈钢表面。氢氟酸还用于合成多种含氟有机化合物,如聚四氟乙烯(PTFE)和制冷剂(如氟利昂)。
氢氟酸和熔融氢氧化钠均可用于除微丝表面的玻璃涂层。室温下,氢氟酸对10μm厚玻璃涂层的清时间约为150s,熔融氢氧化钠清的时间约为10s,玻璃的成分和结构是影响镀膜纯铜微丝耐蚀性的重要因素。采用熔融纺丝法制备了玻璃包覆铜微丝。
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