根据纯度与用途分类，氢氟酸分为工业和电子级两种：工业级的无水HF可用于氟烷烃、氟化盐、含氟精化工等化学品的制备，其精馏、超纯水吸收后纯化，并经 0.2μm 以下超滤等工序后，可制得高纯且超净的电子级氢氟酸，技术难度较大。主要作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，根据纯度分为 4 个级别，与传统工业级氢氟酸行业受限情况不同，近年来电子级HF行业发展受政策允许与鼓励，逆势而上、不断加码产能。

　　电子级氢氟酸主要用于去除氧化物，被运用于集成电路、太阳能光伏和液晶显示屏等领域中进行芯片、硅片、玻璃基板的清洗和蚀刻，以及用于分析试剂和制备高纯含氟化学品等。

　　高纯HF价格为工业级氢氟酸的 2-3 倍，含量也是工业级氢氟酸的一半，另外一半是高纯水。

　　HF是集成电路行业中的关键辅助材料之一，其纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着重要的影响。

　　在半导体制程中有 50 多个环节需要使用高纯氢氟酸，约 70%用于清洗，30%用于蚀刻，半导体要求纯度达99.999氢氟酸。

　　世界电子级氢氟酸需求集中在亚太、欧洲和北美地区，近年来世界市场规模及消费量稳定上涨。目前高纯半导体级氢氟酸的生产技术和供给主要被 Stella（产量 9 万吨）、大金、森田化学（年产 2 万吨）等日企所掌握。三家日企控制着高纯半导体级（UPSS 及以上）氢氟酸产能的近 90%，具备很强的技术优势