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电子级氢氟酸究竟有多重要
- 2020-05-08-

  根据纯度与用途分类,氢氟酸分为工业和电子级两种:工业级的无水HF可用于氟烷烃、氟化盐、含氟精化工等化学品的制备,其精馏、超纯水吸收后纯化,并经 0.2μm 以下超滤等工序后,可制得高纯且超净的电子级氢氟酸,技术难度较大。主要作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业,根据纯度分为 4 个级别,与传统工业级氢氟酸行业受限情况不同,近年来电子级HF行业发展受政策允许与鼓励,逆势而上、不断加码产能。

  电子级氢氟酸主要用于去除氧化物,被运用于集成电路、太阳能光伏和液晶显示屏等领域中进行芯片、硅片、玻璃基板的清洗和蚀刻,以及用于分析试剂和制备高纯含氟化学品等。

  高纯HF价格为工业级氢氟酸的 2-3 倍,含量也是工业级氢氟酸的一半,另外一半是高纯水。

  HF是集成电路行业中的关键辅助材料之一,其纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着重要的影响。

  在半导体制程中有 50 多个环节需要使用高纯氢氟酸,约 70%用于清洗,30%用于蚀刻,半导体要求纯度达99.999氢氟酸。

  世界电子级氢氟酸需求集中在亚太、欧洲和北美地区,近年来世界市场规模及消费量稳定上涨。目前高纯半导体级氢氟酸的生产技术和供给主要被 Stella(产量 9 万吨)、大金、森田化学(年产 2 万吨)等日企所掌握。三家日企控制着高纯半导体级(UPSS 及以上)氢氟酸产能的近 90%,具备很强的技术优势