根据纯度和用途的分类，氢氟酸分为工业级和电子级：工业级无水氢氟酸可用于制备含氟烷烃、氟化盐、含氟精细化学品等化学品。经超纯水蒸馏吸收后，在0.2mμ以下进行纯化超滤，可制备纯度较高的氢氟酸，技术难度大。在微电子工业中主要用作蚀刻剂和清洗剂。根据纯度分为四个等级。与传统工业氢氟酸行业的有限情况不同，电子级氢氟酸行业的发展近年来得到了政策的允许和鼓励，逆势而上，提高了生产能力。

　　电子级氢氟酸主要用于去除氧化物。它用于集成电路、太阳能光伏和液晶显示、芯片、硅片和玻璃基板的清洗和蚀刻、试剂分析和纯度较高含氟化学品的制备等领域。

　　纯度较高的氢氟酸价格是工业级氢氟酸的2-3倍，含量是工业级氢氟酸的一半，另一半是高纯度水。

　　HF是集成电路工业中的关键辅助材料之一。其纯度和清洁度对集成电路的成品率、电气性能和可靠性有重要影响。

　　在半导体制造过程中，50多个环节需要使用纯度较高的氢氟酸，约70%用于清洗，30%用于蚀刻。半导体纯度应为99.999氢氟酸。

　　全球对电子级氢氟酸的需求集中在亚太地区、欧洲和北美。近年来，世界市场规模和消费量稳步增长。目前，纯度半导体级氢氟酸的生产技术和供应主要由Stella（产量9万吨）、Daikin、Morita chemical（年产量2万吨）等日本企业掌握。三家日本企业控制着近90%的纯度半导体级（UPSs及以上）氢氟酸生产能力，具有较强的技术优点。